材 料 制 备
  纳米超微粒子材料制备
气凝胶法制备纳米装置
双温高温CVD纳米材料装置
真空电弧法制备超微粒子装置
激光闪蒸纳米和热CVD炉设备
碳纳米管电弧炉
富勒稀制备电弧炉
气凝胶法制备纳米装置
气超声雾化制粉设备
  其它材料制备和装置
真空纽扣炉
高真空多功能非晶合成设备
纳米场发射测试装置
公斤级真空感应炉
  真空镀膜设备
  真空炉
  真空部件
  电源
 
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纳米超微粒子材料制备
 
  气凝胶法制备纳米装置
制备纳米材料,如纳米硅线、镓、砷化镓等。
*真空度:
 气化室:3×10-4Pa
 混合室:1×10-3Pa
 收集室:1×10-2Pa
*加热温度:混合室,800˚C
 
  双温高温CVD纳米材料装置
  通过高温CVD方法制备一维纳米材料,包括金属、半导体材料等。
  设备组成:真空泵、真空测量、真空抽气和气压调节管道、电源系统、加热炉。
  极限真空为3Pa。
炉子2段控温,最高温度分别为1600和1300℃
  有缺水断水保护功能。
 
  真空电弧法制被超微粒子装置

  电弧法制备微米和纳米级超微细粉,如铜粉铁粉等。
 极限真空:6.6×10-4Pa
 电 流:400A
  样品台:Φ40~Φ100

 
  激光闪蒸纳米和热CVD炉设备

制备纳米粉、纳米硅线、纳米碳管、半导体纳米带等。
* 极限真空:2Pa
* 加热温度:1000˚C和1300˚C
 
  碳纳米管电弧炉
制备碳纳米结构材料,如碳纳米管。
*极限真空:6.6×10-5Pa
*炉 温:800˚C
* 电 极:2个
   旋转电极:转动角度;360˚,可换6个极棒
  平移电极:移动距离;100mm,移动速度;0~0.5r.p.m.可调
 
  富勒稀制备电弧炉

制备碳纳米结构材料C60(富勒稀)
* 极限真空:3Pa
* 水冷阴极:装有Φ8×300石墨电极,6支,各电极可手动切换。整个阴极可做旋和水平移动,且速度可调可控,移动距离:300mm
* 水冷阳极:可转六个工位
* 弧 源:工作电流:100A;工作电压:20~80V
 

 

 
其它材料制备装置
 
  真空纽扣炉

暂时缺图

 
  高真空多功能非晶合成设备

GDJ500

设备具有三种功能,即:
A. 单辊熔体快淬
B. 电弧熔炼
C.真空吸铸法制备块状非晶体
 
 
  纳米场发射测试装置

暂时缺图

 
  公斤级真空感应炉

   设备功能:在真空条件下进行一些金属材料的熔炼和浇铸,得到大块非晶。
   设备的组成:炉体、感应线圈、进电系统、电源系统、真空系统、水冷系统及浇铸系统。
   感应线圈按照100-1000克的熔炼重量设计。
   进电系统可通过大电流且有坩埚倾转机构。
   电源系统由中频熔炼电源和设备总控制电源组成。中频电源为熔炼提供电力,总控电源为真空系统的控制、断水水压保护等提供控制和保护。
   真空系统采用扩散泵系统,主泵为KT200油扩散泵,极限真空度为6.6X10-4Pa。
7、浇铸系统中铸模尺寸为200(L)x200(B)x300(H)mm。